小型離子濺射儀 型號:M31/SD-900

原理：
依據(jù)二極(DC)直流濺射原理。濺射電流調(diào)整控制器、微型真空氣閥在工作時(shí)結(jié)合內(nèi)部自
動(dòng)控制電路控制真空室壓強(qiáng)、電離電流及任意選擇所需要的電離氣體。根據(jù)電場中氣體電離
特性，采用大容量樣品濺射真空室和相應(yīng)面積濺射靶，使濺射鍍層均勻純凈。

小型離子濺射儀 型號:M31/SD-900

參數(shù)：
? 主機(jī)規(guī)格：300mm×360mm×380mm（W×D×H）
? 靶（上部電極）：50mm×0.1mm（D×H）
? 靶材：Au（標(biāo)配）
? 樣品室：硼硅酸鹽玻璃 160mm×120mm（D×H）
? 靶材尺寸：Ф 50mm
? 真空指示表： 高真空度：≤ 4X10-2 mbar
? 離子電流表： 大電流：50mA
? 定時(shí)器： 長時(shí)間：0-360S
? 微型真空氣閥：可連接φ 3mm 軟管
? 可通入氣體： 多種
? 高電壓： -1600 DCV
? 機(jī)械泵：標(biāo)準(zhǔn)配置 2L/S（國產(chǎn) VRD-8）
用途：
適用于電鏡實(shí)驗(yàn)室的掃描電子顯微鏡（SEM）樣品制備，非導(dǎo)體材料實(shí)驗(yàn)電極制作。
2、可調(diào)節(jié)濺射電流和真空室壓強(qiáng)以控制鍍膜的速率和顆粒的大小。
3、SETPLASMA 手動(dòng)啟動(dòng)按鈕可預(yù)先設(shè)置好壓強(qiáng)和濺射電流避免對膜造成不必要的損傷。
4、真空保護(hù)可避免真空過低造成設(shè)備短路。
5、同時(shí)可以通過換不同的靶材（金、鉑、銥、銀、銅等），以達(dá)到細(xì)顆粒的涂層。
6、通過通入不同的惰性氣體以達(dá)到純凈的涂層。
技術(shù)規(guī)格 參數(shù)
主機(jī) 300mm×360mm×380mm（W×D×H）
真空規(guī) 皮拉尼真空計(jì)
靶（上部電極）尺寸 Φ50mm×0.1mm（D×H），Au（標(biāo)配）
樣品室尺寸 160mm×120mm（D×H），硼硅酸鹽玻璃
濺射面積 Φ50mm
高真空度 ≤4×10-2mbar
大電流 50mA
定時(shí)器時(shí)間 0-360s
微型真空氣閥 可連接φ3mm軟管
可通入氣體 多種
高電壓 -1600DCV
電源 220V AC,50Hz接地三腳插頭
機(jī)械泵 2L/S
重量 ~20Kg